產品名稱：電化學CV分布儀（CV測試儀）

全自動電化學CV 分布儀 CVP21
本設備適用於評估和控製在半導體生產中的外延過程並且以被使用在多種不同的材料上，　例如：Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.
CVP 21 的淨室和模塊化的係統設計結構使得本係統可以高效率，準確的測量半導體材料（結構，層）中的摻雜濃度分布．選用合適的電解液與材料接觸，腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控製

CVP21的係統特點
• 堅固可靠的模塊化係統結構 ．光學，電子和化學部分相對獨立．
• **的測量電路模塊
• 強力的控製軟件，係統操作，使用簡便
• 完善的售後服務體係

提供免費樣品測試並提供測試報告。
保修期：2年，終身維修。
對用戶承諾終身免費樣品測試每月1次。

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特別推薦矽太陽能電池研究單位使用
知名用戶:
(Shin-Etsu SEH or ISFH)In the field of solar cell research, the CVP21 system is currently being used at many research centres. It was first used in 1999 by the Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems (ISE) in Freiburg, Germany, and since then it has been installed at the Institute for Molecules and Materials (IMM) in Nijmegen, The Netherlands, the RWE Space Solar Power GmbH in Heilbronn, Germany, the Hahn-Meitner-Institute (HMI) in Berlin, Germany, and the Institute for Solar Energy Research (ISFH) in Hamelin/Emmerthal, Germany.
在德國和日本都有很多太陽能電池用戶使用,鑒於商業保密需要不能公開。

CVP21的係統特點
• 堅固可靠的模塊化係統結構 ．光學，電子和化學部分相對獨立．
• **的測量電路模塊
• 強力的控製軟件，係統操作，使用簡便
• 完善的售後服務體係

全自動電化學CV 分布儀 CVP21



本設備適用於評估和控製在半導體生產中的外延過程並且以被使用在多種不同的材料上，　例如：Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.
CVP 21 的淨室和模塊化的係統設計結構使得本係統可以高效率，準確的測量半導體材料（結構，層）中的摻雜濃度分布．選用合適的電解液與材料接觸，腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控製



提供免費樣品測試並提供測試報告。
保修期：2年，終身維修。
對用戶承諾終身免費樣品測試每月1次